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來看痞客邦關於FinFET的文章討論內容: 曾經,半導體製程經歷過主要透過黃光 (lithography) 縮小間距就能微縮、加強元件效能、降低成本的美好年代, 不過隨後微縮的尺寸越來越接近黃光的極限,需要引入「多重曝光」(...
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